英微米晶圓表面微粒分析儀U-III該產品專為高潔凈度制造場景設計,采用革命性激光傳感技術與智能采樣系統(tǒng),可精 準檢測0.1微米級表面顆粒污染,助力半導體、液晶面板及精密電子行業(yè)實現(xiàn)更高良率與可靠性。
核心技術創(chuàng)新
納米級檢測能力
U-III搭載HeNe激光傳感器,分辨率達0.1微米,支持0.1-5.0微米顆粒粒徑的六通道分類統(tǒng)計(0.1/0.2/0.3/1.0/3.0/5.0μm),覆蓋半導體制造中對超細微粒的嚴苛檢測需求。
靜態(tài)采樣模式:通過優(yōu)化氣流控制,減少測量誤差,提升數(shù)據(jù)穩(wěn)定性。
智能化設計與操作體驗
7英寸高分辨率觸控屏:支持實時數(shù)據(jù)可視化與交互操作,簡化流程。
雙電池熱插拔系統(tǒng)?:支持連續(xù)生產場景下的不間斷作業(yè),電池更換無需停機。
USB數(shù)據(jù)接口與軟件升級?:便捷導出檢測報告,并可通過固件更新持續(xù)優(yōu)化性能。
行業(yè)應用與效益
提升制造效率
減少50%自凈時間?:通過量化表面污染數(shù)據(jù),縮短設備維護周期(PM周期),提升產線吞吐量。
延長MTBC(平均無故障周期):結合顆粒控制策略,關鍵設備可靠性提升4倍以上。
覆蓋高潔凈場景
半導體制造:晶圓表面、機臺內腔等關鍵區(qū)域的潔凈度驗證。
精密光學與電子:液晶面板、光學鏡片組件、醫(yī)療器械的表面污染控制。
符合國際標準
產品嚴格遵循ISO-14644-9表面粒子控制規(guī)范,為全球半導體廠商提供標準化檢測工具。
測量粒徑:A 0.3um、2.5um、10um;
B 0.3um、(0.5/1.0/2.5/5.0)um、10um;
C 0.3um、0.5um、1.0um、2.5um、5.0m、10um;
D 0.5um、1.0um、1.5um、2.0um、2.5um、3.0um;
E 0.5um、1.0um、3.0um、5.0um、10.0um、25.0um;
F 0.10um、0.2um、0.25um、0.5um、0.7um、1.0 μm;